Как цитировать патент в формате IEEE

Понимание цитирования патентов в формате IEEE

Патенты — это официальные документы, предоставляющие изобретателям исключительные права на их разработки. Правильное цитирование патентов помогает читателям понять технологические достижения и проверить изобретения, упомянутые в технических работах.

Формат IEEE для патентов включает имена изобретателей, название патента, патентное ведомство, номер патента, дату выдачи и URL, если он доступен. Формат подходит как для патентов США, так и для международных патентов.

Формат IEEE для патентов

[#] Инициалы. Фамилия и Инициалы. Фамилия, “Название патента,” Код страны Патент №, Сокр. название патентного ведомства, Месяц День, Год.

Пример:

[1] J. K. Smith and M. L. Johnson, “Advanced semiconductor processing method,” U.S. Patent 11,234,567, U.S. Patent and Trademark Office, Mar. 14, 2023.

Подробные элементы цитирования

Имена изобретателей

Указывайте всех изобретателей в формате Инициалы. Фамилия.

Название патента

Название патента берется в кавычки.

Код страны

Указывайте аббревиатуру страны (U.S., Japan, EU и т.д.).

Номер патента

Указывайте полный номер патента.

Патентное ведомство

Указывайте ведомство, выдавшее патент.

Дата выдачи

Указывайте месяц, день и год выдачи патента.

Подробные примеры

Патент США

[1] R. C. Williams, “Machine learning algorithm for image recognition,” U.S. Patent 10,987,654, U.S. Patent and Trademark Office, Jan. 15, 2023.

Международный патент

[2] M. S. Garcia and J. H. Lee, “Renewable energy conversion system,” European Patent EP 3,789,012, European Patent Office, Feb. 14, 2023.

Несколько изобретателей

[3] S. J. Lee, K. A. Thompson, and B. J. Anderson, “Advanced biodegradable polymer,” U.S. Patent 11,098,765, U.S. Patent and Trademark Office, Jan. 15, 2023.

Патент на дизайн

[4] P. J. White, “Ergonomic computer mouse design,” U.S. Design Patent D 987,654, U.S. Patent and Trademark Office, Dec. 10, 2022.

Внутритекстовые ссылки на патенты

IEEE использует нумерованные ссылки в квадратных скобках:

Эта технология основана на предыдущих исследованиях [1].

Или несколько патентов:

Несколько патентов рассматривают эту проблему [1], [2], [3].

Особые случаи цитирования патентов

Заявка на патент (еще не выдана)

[5] M. K. Chen и L. Martinez, “Quantum computing processor,” U.S. Patent Application 2023/0,123,456, подана Jan. 15, 2023, опубликована Jul. 20, 2023.

Патент с корпоративным правопреемником

[6] J. Williams, “Automated drug discovery system,” U.S. Patent 11,345,678, передан BioTech Innovations Corp., U.S. Patent and Trademark Office, Mar. 12, 2023.

Японский патент

[7] T. Yamamoto, “Advanced battery technology,” Japan Patent JP2023-123,456, Japan Patent Office, Feb. 1, 2023.

Использование GenText для управления цитированием патентов

Управление цитированием патентов в разных юрисдикциях требует отслеживания номеров патентов и дат выдачи. GenText помогает:

• Форматировать цитаты патентов в правильном стиле IEEE
• Отслеживать номера патентов из разных стран
• Организовывать по изобретателю, технологии или области
• Управлять информацией о патентных ведомствах
• Конвертировать между стилями цитирования
• Генерировать списки литературы для патентных исследований
• Поддерживать информацию о статусе патента

Распространенные ошибки при цитировании патентов в IEEE

1. Неправильный формат номера патента: Проверяйте официальный формат номера.
2. Неверная аббревиатура патентного ведомства: Используйте правильное обозначение ведомства.
3. Отсутствие даты выдачи: Всегда указывайте месяц, день и год.
4. Неполная информация об изобретателях: Указывайте всех изобретателей в правильном порядке.
5. Путаница с датами: Используйте дату выдачи, а не дату подачи.

Контрольный список для цитирования патентов

• Все имена изобретателей указаны правильно
• Название патента точное и полное
• Указан код страны
• Номер патента полный
• Патентное ведомство указано правильно
• Дата выдачи точная
• Формат соответствует требованиям IEEE
• Включен URL (если доступен)

Поиск информации о патентах

Основные патентные базы данных:

• USPTO (США): patents.google.com, uspto.gov
• Европейское патентное ведомство (EPO): espacenet.com
• Всемирная организация интеллектуальной собственности (WIPO): patentscope.wipo.int
• Японское патентное ведомство (JPO): База данных патентов
• Google Patents: patents.google.com
• Free Patents Online: freepatentsonline.com

Понимание типов патентов

Разные типы патентов имеют свои особенности:

• Патенты на полезные модели: Защищают функциональные изобретения
• Патенты на дизайн: Защищают декоративные решения
• Патенты на растения: Защищают новые сорта растений
• Патенты на бизнес-методы: Защищают бизнес-процессы

Патенты отражают значительные технологические инновации. Правильное цитирование в формате IEEE позволяет читателям ознакомиться с техническими характеристиками и понять развитие технологий.

Дополнительная литература

• IEEE Citation Reference — Официальное руководство IEEE с подробными инструкциями по цитированию различных источников, включая патенты, в формате IEEE.
• USPTO (Patents/Trademarks) — Авторитетный ресурс для понимания патентов и патентной документации, полезный для точного цитирования.
• Purdue OWL (Online Writing Lab) — Обширный ресурс по написанию текстов, включающий рекомендации и примеры цитирования, актуальные для технических и академических работ.

Дополнительные материалы

• IEEE Citation Reference — Официальное руководство IEEE по оформлению ссылок, где приведены правила цитирования патентов и других технических источников.
• USPTO — Официальный сайт Ведомства по патентам и товарным знакам США, полезный для проверки патентных данных и корректного указания библиографической информации.
• Purdue OWL — Надежный образовательный ресурс по академическому письму, который помогает понять общие принципы оформления ссылок и библиографий.
• Cornell Law (Legal Information Institute) — Полезный правовой ресурс для понимания патентной терминологии и контекста, связанного с правовой природой патентов.