Wie man ein Patent im IEEE-Format zitiert

Verständnis von Patentzitaten im IEEE-Format

Patente sind offizielle Dokumente, die Erfindern exklusive Rechte an ihren Innovationen gewähren. Die korrekte Zitierung von Patenten hilft den Lesern, technologische Entwicklungen nachzuvollziehen und die in technischen Arbeiten referenzierten Erfindungen zu überprüfen.

Das IEEE-Format für Patente umfasst die Namen der Erfinder, den Patentschrift-Titel, das Patentamt, die Patentnummer, das Ausgabedatum und die URL, falls verfügbar. Das Format berücksichtigt US-amerikanische und internationale Patente.

IEEE-Format für Patente

[#] Initialen Nachname und Initialen Nachname, „Patentschrift-Titel“, Patentland Patentnummer, Abkürzung Patentamt, Monat Tag, Jahr.

Beispiel:

[1] J. K. Smith und M. L. Johnson, „Advanced semiconductor processing method,“ U.S. Patent 11,234,567, U.S. Patent and Trademark Office, Mar. 14, 2023.

Detaillierte Zitationsbestandteile

Namen der Erfinder

Alle Erfinder im Format Initialen Nachname angeben.

Patentschrift-Titel

Der Titel des Patents steht in Anführungszeichen.

Ländercode

Länderkürzel angeben (U.S., Japan, EU etc.).

Patentnummer

Die vollständige Patentnummer angeben.

Patentamt

Das ausstellende Patentamt benennen.

Ausgabedatum

Monat, Tag und Jahr der Patentausstellung angeben.

Ausführliche Beispiele

US-Patent

[1] R. C. Williams, „Machine learning algorithm for image recognition,“ U.S. Patent 10,987,654, U.S. Patent and Trademark Office, Jan. 15, 2023.

Internationales Patent

[2] M. S. Garcia und J. H. Lee, „Renewable energy conversion system,“ European Patent EP 3,789,012, European Patent Office, Feb. 14, 2023.

Mehrere Erfinder

[3] S. J. Lee, K. A. Thompson und B. J. Anderson, „Advanced biodegradable polymer,“ U.S. Patent 11,098,765, U.S. Patent and Trademark Office, Jan. 15, 2023.

Design-Patent

[4] P. J. White, „Ergonomic computer mouse design,“ U.S. Design Patent D 987,654, U.S. Patent and Trademark Office, Dec. 10, 2022.

Zitieren im Fließtext für Patente

IEEE verwendet nummerierte Zitate in eckigen Klammern:

Diese Technologie baut auf früheren Arbeiten auf [1].

Oder mehrere Patente:

Mehrere Patente behandeln dieses Problem [1], [2], [3].

Besondere Fälle bei der Patentzitierung

Patentanmeldung (noch nicht erteilt)

[5] M. K. Chen und L. Martinez, „Quantum computing processor,“ U.S. Patent Application 2023/0,123,456, filed Jan. 15, 2023, and published Jul. 20, 2023.

Patent mit Unternehmenszuordnung

[6] J. Williams, „Automated drug discovery system,“ U.S. Patent 11,345,678, assigned to BioTech Innovations Corp., U.S. Patent and Trademark Office, Mar. 12, 2023.

Japanisches Patent

[7] T. Yamamoto, „Advanced battery technology,“ Japan Patent JP2023-123,456, Japan Patent Office, Feb. 1, 2023.

Verwendung von GenText zur Verwaltung von Patentzitaten

Die Verwaltung von Patentzitaten über verschiedene Rechtsgebiete hinweg erfordert die Nachverfolgung von Patentnummern und Ausgabedaten. GenText unterstützt dabei durch:

• Formatierung von Patentzitaten im korrekten IEEE-Stil
• Nachverfolgung von Patentnummern aus verschiedenen Ländern
• Organisation nach Erfinder, Technologie oder Fachgebiet
• Verwaltung von Patentamtsinformationen
• Umwandlung zwischen Zitierformaten
• Erstellung von Literaturlisten für die Patentrecherche
• Pflege von Patentstatusinformationen

Häufige Fehler bei IEEE-Patentzitaten

1. Falsches Format der Patentnummer: Offizielles Format der Patentnummer prüfen.
2. Falsche Abkürzung des Patentamts: Korrekte Bezeichnung des Amtes verwenden.
3. Fehlendes Ausgabedatum: Monat, Tag und Jahr immer angeben.
4. Unvollständige Angaben zu Erfindern: Alle Erfinder in korrekter Reihenfolge auflisten.
5. Verwechselte Daten: Ausgabedatum verwenden, nicht Anmeldedatum.

Checkliste für Patentzitierungen

• Alle Erfinder korrekt angegeben
• Patentschrift-Titel genau und vollständig
• Ländercode angegeben
• Patentnummer vollständig
• Patentamt korrekt benannt
• Ausgabedatum korrekt
• Format entspricht IEEE-Richtlinien
• URL enthalten (falls verfügbar)

Finden von Patentinformationen

Wichtige Patentdatenbanken:

• USPTO (USA): patents.google.com, uspto.gov
• Europäisches Patentamt (EPA): espacenet.com
• WIPO (weltweit): patentscope.wipo.int
• Japanisches Patentamt (JPO): Patentdatenbank
• Google Patents: patents.google.com
• Free Patents Online: freepatentsonline.com

Verständnis der Patentarten

Verschiedene Patentarten haben spezifische Merkmale:

• Gebrauchsmusterpatente: Schützen funktionale Erfindungen
• Designpatente: Schützen ornamentale Designs
• Pflanzenpatente: Schützen neue Pflanzenarten
• Geschäftsmethodenpatente: Schützen Geschäftsprozesse

Patente stellen bedeutende technologische Innovationen dar. Die korrekte IEEE-Zitierung ermöglicht es den Lesern, technische Spezifikationen zu prüfen und technologische Entwicklungen nachzuvollziehen.

Weiterführende Literatur

• IEEE Citation Reference — Offizieller IEEE-Leitfaden mit detaillierten Anweisungen zum Zitieren verschiedener Quellen, einschließlich Patenten, im IEEE-Format.
• USPTO (Patente/Marken) — Autoritative Ressource zum Verständnis von Patenten und Patentdokumentation, hilfreich für genaue Zitierdetails.
• Purdue OWL (Online Writing Lab) — Umfassende Schreibressource mit Zitierleitfäden und Beispielen, relevant für technische und akademische Texte.